변정훈 교수는 대기압·상온 조건에서 기계공정 기반 기술로 나노미터(nm, 10억분의 1미터) 크기의 금속 점 및 고리 형상으로 구성된 광반응성 기판을 세계 최초로 구현했다.
통상적으로 나노미터 크기의 금속 패턴(Pattern)은 반도체나 디스플레이 제조 공정에 이용되는 진공 조건의 복잡한 식각(lithography) 공정을 통해 구현된다. 하지만 변정훈 교수는 이번 연구에서 대기압에서 기체의 흐름 및 온도 제어를 통해 금속막 생성을 유도하는 나노입자를 실리콘 기판 위에 부착시킨 후, 상온에서 금속막의 생성을 추가로 유도해 40나노미터 수준의 금속점(Nanodot) 및 고리(Nanoring)가 패턴된 광반응성 기판을 구현했다.
이번 연구결과는 기존 식각공정의 기술적 복잡성을 극복하는 새로운 대안을 제시한 것으로 평가된다.
변정훈 교수는 "기체의 열과 흐름을 제어하는 기계식 비(非)식각 공정을 토대로 금속막 생성 유도 나노입자 표면의 정전기 조절 및 나노입자 물질변경 등을 통해 보다 다양한 특성의 광반응성 나노기판을 구현할 수 있다"며 "이에 따라 저비용으로 빛에 반응하는 초소형 의료용 센서 및 빛을 열로 전환시키는 에너지 변환 소재 등의 개발에 활용될 수 있을 것"이라고 말했다.
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